عالية النقاء الاخرق المعادن الهدف التيتانيوم Ti تستهدف الشركة المصنعة التخصيص على شكل خاص من الصين

مادة التيتانيوم المستهدفة ، التيتانيوم رمز Ti ، العدد الذري 22 ، الكثافة 4.454 جم / سم 3 ، الخصائص الفيزيائية: نقطة الانصهار 1668 ° C ، نقطة الغليان 3262 ° C ، السعة الحرارية المحددة 0.52 (J / (Kg · K) ، حرارة التبخر 421 (كيلوجول / مول) ، حرارة الانصهار 15.45 (كيلوجول / مول) ، والتوصيل 0.0234 (106 / سم) ، لأن تكلفة التيتانيوم عالي النقاوة باهظة للغاية ومجال التطبيق مرتفع للغاية بشكل محدود ، يتم استخدامه بشكل أساسي كمادة جامدة في مواد أشباه الموصلات وأجهزة تفريغ عالية جدًا.

التيتانيوم عالي النقاء له خصائص الحصول على الهيدروجين ، غاز الميثان ، غاز ثاني أكسيد الكربون ، لذلك يمكن استخدامه على نطاق واسع في أنظمة الفراغ العالية والفراغ. عند استخدام رش التيتانيوم عالي النقاء لإنشاء شبكة خطوط LSI و VLSI و ULSI ، يمكن أن تصبح هذه الأجزاء المدمجة خفيفة للغاية ورقيقة وصغيرة الحجم وكثيفة في الدوائر. يمكن أيضًا استخدام أهداف التيتانيوم عالية النقاء كمواد معدنية حاجزة. الصور التالية عبارة عن صورتين نموذجيتين للفحص المعدني الميكروسكوبي لأهداف تطاير من التيتانيوم ، متوسط ​​حجم الجسيمات أقل من 50 ميكرومتر.

طالما أنك تقدم معلومات مفصلة عن الهدف ، مثل النقاء والحجم ومتطلبات التسامح والمتطلبات الفنية الأخرى ، فسوف نقدم لك عرض أسعار في أقرب وقت ممكن ونوفر لك أسرع وقت للتسليم.

نحن ننتج أهداف رش عالية النقاء. ميزته الأكثر أهمية هي أنه في عملية ترسيب البخار الفيزيائي ، يمكن الحصول على فيلم رقيق مع التوصيل الكهربائي الممتاز وتقليل الجسيمات. الجدول التالي عبارة عن شهادة تحليل التركيب لهدف رش التيتانيوم عالي النقاء 4N5. طرق التحليل المستخدمة: 1. استخدم GDMS أو ICP-OES لتحليل العناصر المعدنية. 2. استخدم LECO لتحليل عنصر الغاز.